光刻胶 - OFweek电子工程网

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  光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采取了适当的有选择性的光查看详情

  众所周知，全球前道光刻机（非后道光刻机）的主要玩家就4家，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，中国的上海微电子。 但如果从市场占有率来看，ASML占了85%以上的份额，然后尼康、佳能又占了15%左右，上海微电子的份额几乎为零

  ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机

  目前ASML对外大规模发售的光刻机叫做标准光刻机，也可称之为LOW NA EUV，意思就是其数值孔径是较低值的，所以称之为LOW，NA=0.33。 这种光刻机大多数都用在7nm及以下芯片的制造，至于往下能够支持到多少纳米？ASML没有说

  快科技6月6日消息，据外国媒体报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。 报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统

  【洞察】离子束光刻胶（IBL光刻胶）大多数都用在离子束光刻技术中 我国市场空间有望扩展

  未来随着离子束光刻技术慢慢的提升，离子束光刻胶行业发展形态趋势将持续向好。 离子束光刻胶又称IBL光刻胶，指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性高、分辨率比较高、耐辐射、耐热性好等优势，在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景

  1）分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 2）对比度（Contrast）

  如今的光刻机市场，已经是ASML的天下了，ASML一家拿下了全球80%以上的市场，特别是在EUV这种高端市场，ASML拿下100%的份额，其它任何光刻机厂商，都生产不了EUV光刻机。 与之对比的是，

  自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。 而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。 如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%

  据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是不是真的存在，以及具体是如何工作的，ASML、台积电也均未公开回应

  在芯片产业中，光刻胶是不可或缺的重要材料。因为目前的芯片制造均是采取光刻方式，而这样的形式就需要光刻胶。 而光刻胶与光刻机的技术又是对应的，不同的光刻机，对应不同的光刻波长，又对应着不同的光刻胶，一样能分为KrF、ArF、EUV等等

  随着芯片工艺的慢慢的提升，光刻机地位也是逐渐重要，因为光刻机的精度，某些特定的程度上决定了光刻工艺的精度，就决定了芯片的精度。 于是从普通的干式DUV光刻机，到浸润式DUV光刻机，再到普通EUV光刻机，再

  美国现在甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务，不过在ASML看来，这么做影响并不大，至少基本不可能影响其收入。 Peter Wennink虽然从ASML CEO的位子上退了下来，但似乎更敢说线

  光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 股价大跌：网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货

  快科技4月18日消息，光刻机巨头阿斯麦（ASML）业绩爆雷，这也导致公司股票价格大幅下挫。 阿斯麦发布的2024年第一季度财务报表。财报多个方面数据显示，公司今年一季度营收端大幅度地下跌，实现盈利收入52.9亿欧元，同比下降21.6%，不及市场预期：公司一季度纯利润是12.24亿欧元，同比下滑37.4%

  光刻机是当前所有芯片制造设备中，最为关键的一环，且是中国自有芯片产业链中，最为薄弱的一环，毕竟我们国产的光刻机，仅实现了90nm工艺。 所以一直以来，我们都需要大量的从荷兰、日本进口光刻机，因为全球除了中国上海微电子之外，也只有荷兰的ASML、日本的佳能、尼康能制造芯片产业的前道光刻机